福州直流磁控濺射電源廠家1、電控櫃(guì)的操(cāo)作:1)開水泵、氣源。2)開(kāi)總電源。3)開維持泵、真空計(jì)電源(yuán),真空計檔位置V1位置,等待其(qí)值小(xiǎo)於10後,高品質(zhì)直流磁(cí)控濺射電源(yuán)廠家再進入下一步操作。約需5分鍾。4)開機械泵、予抽,開渦(wō)輪(lún)分子泵電源、啟動,真空(kōng)計開關換到V2位置,抽到小於(yú)2為止,約需20分鍾。5)觀察渦輪分子泵讀數到達(dá)250以後,關予抽,開前機和高閥繼續抽真空,抽真空到達一定(dìng)程(chéng)度後才能開右邊的(de)高真空(kōng)表頭,觀察真空度。真空到達2×10-3以後(hòu)才能開(kāi)電子槍電源(yuán)。
福州直流磁控濺射(shè)電源廠家高壓電源的用途有哪些:(1)許多使用(yòng)高壓電源,包括一個高電壓功率X光機,激光高壓電(diàn)源,高電壓功率(lǜ)譜分析,無損檢測高壓電源,高電壓功(gōng)率半導體製造設備,毛細管電泳,高壓電源高電壓電(diàn)源的無損檢測(2)粒子噴射於半導體技術的高電壓電源,高電壓電源物理氣(qì)相沉積(PVD),離(lí)子束沉積納米光刻高壓電源,離子束輔助沉積,電子束蒸發,電子束焊(hàn)接,離子源,DC磁控(kòng)管反應濺(jiàn)射,玻璃/塗層(céng)織(zhī)物,輝光放電,微波處理試驗電壓的電容器,CRT顯示器測試(3)高(gāo)品質直流磁控濺射電源廠家高壓電纜故障測試(PD測試),測試TWT,H-POT測試。粒子(zǐ)加速器(qì),自由電子激光器,中子源,回旋加速(sù)器源,脈衝生成電容器電感器網絡,馬克思高電壓脈(mò)衝發生器,電容器(qì)充電器。(4)微(wēi)波加熱,RF放大器,納米技術應用中,靜電(diàn)技術(shù),製備靜電納米纖維,使用高壓電源的高壓電源核儀器和類似的產(chǎn)品。
福州直流磁控濺射電源廠家真空鍍膜(mó)這一塊是真(zhēn)空應用領域(yù)的重(chóng)要(yào)方麵,在真空中以真空技術為基礎,把物(wù)理方法和化學方法利用起來,通過吸收(shōu)分子束、離子束、電子束、等離子(zǐ)束、射頻和磁控等一係列高新技術,在科學研究和實際生(shēng)產中(zhōng),高品質直流磁控濺(jiàn)射電源(yuán)廠家為薄膜製備提供一種新工藝,簡單的一點來說,要在真空中利用合金、金屬或化合物進行蒸發(fā)和濺射,並讓被塗覆的(de)物體(有基片、稱基板(bǎn)、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍膜電源就可想而知,眾(zhòng)所周知,在一(yī)些材料的表麵上(shàng)鍍上一(yī)層(céng)薄膜,就可以使(shǐ)這種材料具有多種性能,例如良好的物理和(hé)化學性能並且是嶄新的;
福州(zhōu)直流磁控(kòng)濺射電(diàn)源廠家真(zhēn)空鍍膜機開機(jī)和(hé)關機(jī)注意事項(xiàng)有哪(nǎ)些?簡單地(dì)講,真空鍍膜機不管在開機(jī)還是在關機時都(dōu)說有一定的(de)技巧和安全隱患的;接下來的時間裏,下麵就由真空鍍膜電源的小(xiǎo)編來給大家詳細介紹下有(yǒu)關高品質直流(liú)磁控濺射電源廠家真(zhēn)空鍍(dù)膜機開機和關機注意事項吧。(1)熟練掌握(wò)真空鍍膜(mó)機安全操作規程(2)開機前先檢查水、電、氣是否正常。(冷卻水壓(yā)力一般可在0.2MPa以上,氣在(zài)0.4Mpa以上,電壓在370-390V)。
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