真空鍍膜（mó）機幾種鍍膜方法介紹

真空鍍膜設備的鍍膜工藝有很多。簡單來說，就是利用蒸發、濺射等方法，在真空環境（jìng）下發射薄膜顆粒，將其（qí）沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑料件等物（wù）體上，形成客戶需要的各（gè）種塗層。在日常生活中（zhōng）較為常見的技術有真（zhēn）空蒸（zhēng）發、濺射鍍膜（mó）、離子鍍膜等

真空蒸發鍍膜:原理是用（yòng）蒸發器（qì）在真空條件下加熱薄膜材（cái）料，使其汽化或升華。蒸發的粒子流直接指向基材，在基材上沉積固體薄膜。蒸發又可分為電（diàn）子束（shù）蒸發、電阻蒸發（fā）、感應蒸發等

濺射鍍膜:在（zài）真空條件下（xià），對（duì）陰極施加高壓電激（jī）發輝光放電，帶正電的氬離子與陰極靶材碰撞，使其射出薄膜顆粒，沉積在基材上，形成薄膜層。

離子塗層:離子塗層通常是指在塗層過程中產生大量離子的塗層方法。在膜的形成過程中，基底（dǐ）不斷受（shòu）到高能粒子的轟擊，膜層（céng）的強（qiáng）度和附著力非常強。當離子鍍用於（yú）生產高精度膜層時，可以過濾掉大（dà）顆粒離子，從而獲得高結構、高密度的（de）膜層。

日常生活中較常（cháng）用的鍍膜技術就是這三種（zhǒng）真空鍍膜設備。具體選擇取決於要塗覆的膜層類型、要塗覆（fù）的工件類型等。