真空鍍膜電源的工作原（yuán）理（lǐ）

直流電源工作原理（以常見的直（zhí）流濺射鍍（dù）膜電源為例）
直流電源（yuán）的輸出端連接到濺射靶材和鍍膜基底所在（zài）的真空腔（qiāng）體內。在真空環境下，電源提供穩定的直流電壓（yā），使得靶材相對於基底帶負電。當電壓達（dá）到一定程度時，腔體內的氣體（通（tōng）常為惰性氣體，如氬氣）被電（diàn）離形成（chéng）等離子體，其中的正離子在電場作用下加速轟擊靶材表麵。靶材原子在離子轟擊下被濺射出來，然後沉積（jī）到基底表麵，從而形成（chéng）鍍（dù）膜層。電源的作用就是持續（xù）穩定地提供這個（gè）驅動離子轟擊以（yǐ）及維持等離子體的電壓，並且通過調節（jiē）輸出電壓、電流等參數來控製濺射速率等（děng）鍍膜相關參數。

交流電源工作原理（比如中頻、高頻電源（yuán）用於某些鍍膜工藝）
對於中頻（一般頻率在幾十千（qiān）赫茲）和（hé）高（gāo）頻（頻率更高，可達兆赫茲級別）電源，它們（men）通過交變（biàn）的（de）電場來（lái）使氣體電離形成等離子體。以中頻電源為例，其輸出的交（jiāo）變電流（liú）會在真空腔體內產生周期（qī）性變化（huà）的電場，使得氣體分子（zǐ）在（zài）不同時刻分（fèn）別被加速、電離，產生的等離子體中的離子周期（qī）性地轟擊靶材，實現材料的濺射和鍍（dù）膜。高頻電源則利用（yòng）更高頻（pín）率的交變電場，能更有效地（dì）產生高密度的等離子體，適用於一（yī）些（xiē）對鍍膜質量、鍍（dù）膜速率要求更高的工藝場景。其工作過程中，電源的頻（pín）率（lǜ）、功率等參數對等離子體的狀態以及最終的鍍（dù）膜（mó）效果起著關鍵的調節作用。

脈（mò）衝電源工作原理
脈衝電源是按照一定的時（shí）間（jiān）間隔輸出脈衝式的電壓（yā）或電流。在脈衝（chōng）的高電平階段，會在真空腔體內產生足夠強的電場使氣體（tǐ）電離、驅動離子轟（hōng）擊靶材（cái）等（děng），實現鍍膜材（cái）料的濺射或蒸發等過程；而在脈（mò）衝的（de）低（dī）電平階段，等離（lí）子體等狀態會短暫調整，這樣可以避免連續工作時可能出現的一些諸如靶材過熱、等離子體不穩（wěn）定等問題。通過調節脈衝的頻率、寬度（dù）、幅值等參數，能夠精準地控製鍍膜過程中的瞬時功率、平均功率等，進而有效控製鍍膜的質量和速率，尤其適用於一些對膜層微觀結構、性能要（yào）求特殊的鍍膜應用。