北京HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有（yǒu）行動穩（wěn）定電壓功能，具有理想的電壓陡降（jiàng）特性，
有效抑製工件表麵打火，明顯提高鍍件（jiàn）的（de）成品率（lǜ）、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓（yā）脈（mò）衝輸出峰值（zhí）可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比（bǐ）1%~5%(最 大脈（mò）衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口（kǒu）。
采用先（xiān）進的PWM脈寬調（diào）製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體積小（xiǎo）、重量輕、功能（néng）全、性能穩定可靠（kào），生產工（gōng）藝嚴格完善。
該（gāi）係列（liè）產品采（cǎi）用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的（de）重複性，
並且（qiě）具有（yǒu）抑製靶材弧光放電及抗短路功能（néng），
具有極佳的負載匹配能力，既（jì）保證了靶麵清（qīng）洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便（biàn）維（wéi）護，可靠性高（gāo）；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實（shí）現自動化控製。

主要用（yòng）途：

高壓窄脈（mò）衝電源適用於（yú）特殊鍍（dù）膜工（gōng）藝（yì）時被鍍工（gōng）件表麵的輝光清洗、鍍膜（mó）前的離子轟擊和鍍膜時的離（lí）子加速等。

社會不斷發展，技術（shù）也是（shì）不斷得在創（chuàng）新。真（zhēn）空鍍膜（mó）電源的運用範圍是越來越（yuè）廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的（de）新技（jì）術，是表（biǎo）麵工程技（jì）術領（lǐng）域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真（zhēn）空鍍膜技術應用越來越廣泛。從（cóng）半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記（jì）錄儲存膜（mó）；充分展示和（hé）應用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光（guāng）膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和（hé）增透膜；建築、汽車行業上應（yīng）用的玻璃鍍膜（mó）和裝飾膜；包裝領域（yù）用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的（de）功能膜（mó）；工、模具表麵上應用的耐磨超硬（yìng）膜（mó）；納米材料研究（jiū）方麵的各種功能性薄膜等。對於（yú）國內真空（kōng）鍍膜設（shè）備製造企業發展建（jiàn）議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱（ruò），複蘇充滿不確定性，經（jīng）濟處於（yú）繼續探（tàn）底過程，真空（kōng）鍍膜設（shè）備製造（zào）企業應著力（lì）進（jìn）行產業結構優化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識（shí）產權的新產品（pǐn）新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化（huà）帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含（hán）量高、經濟效益好、資源消耗低（dī）、環境汙染（rǎn）少、人力資源優勢得到充分發揮的（de）新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行（háng）業先（xiān）進技術和（hé）工藝（yì）水平的（de）科研院所、大型企業、高校（xiào）合作（zuò），使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應（yīng）用領域和（hé）發（fā）展前景。未來真空鍍膜（mó）設備行業等製造業將以信（xìn）息化融合為重心，依靠技術（shù）進（jìn）步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真（zhēn）空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。