主要型號(hào):
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇(zé)三角波、矩形波、正弦(xián)波三種波形,波形的最高(gāo)值和最低(dī)值可獨立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角(jiǎo)波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇(zé)手動控製/模擬(nǐ)量接口控製,可選(xuǎn)配RS485通訊接口。
采用(yòng)先進的PWM脈寬調製技術(shù),使用進口IGBT或MOSFET作為功(gōng)率(lǜ)開關器件,
體積(jī)小、重(chóng)量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝(yì)嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工(gōng)藝的重複性,
並(bìng)且具有抑製靶材弧光放電及抗短(duǎn)路功能,
具有極佳的負載匹配能力,既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠(kào)性高;
PLC接口(kǒu)和RS485接(jiē)口擴展(zhǎn)功(gōng)能(néng),方便實現(xiàn)自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形(xíng)電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可(kě)變磁磁場,使多弧輝光由原(yuán)來的集中放(fàng)電變(biàn)為均勻放電,提高工件膜層質量
真空鍍膜(mó)電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應(yīng)用在金屬表麵處理及小功率範圍(wéi)內的國內市場(chǎng)已經接受,具(jù)有廣闊的市場前景。但產品主要局限於(yú)1500A以下的(de)中小功(gōng)率領域,在國內也隻有少(shǎo)量(liàng)廠家生產,從技術角度看主要(yào)限於硬開關變換模式和模擬控製方式,可靠性(xìng)、EMC及工藝結構(gòu)等方麵(miàn)具有明顯的局限性,同焊接等領域全麵推廣應用開關式電源的景況具有較大差距。
真空(kōng)鍍膜(mó)是指(zhǐ)在高(gāo)真空的條件下(xià)加熱金屬或非金屬材料,使其蒸(zhēng)發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵(miàn)而形(xíng)成(chéng)薄膜的一種方法。
真空鍍(dù)膜(mó)這一塊是真空(kōng)應用領域的(de)重要方麵,在真空中(zhōng)以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法利用起來,通過吸收分子束(shù)、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列高新技術,在科(kē)學研究和實際生產中,為薄膜製備(bèi)提供一種(zhǒng)新工藝,簡單的一點來說,要在真空中利用合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射,並讓被塗覆的物(wù)體(有基片、稱基板、基體等等)進行(háng)凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真(zhēn)空鍍膜電源就(jiù)可想而知,眾所(suǒ)周知,在一些材料的表麵上鍍上(shàng)一層薄膜,就可以使這(zhè)種材料(liào)具有多(duō)種性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;