江蘇HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主（zhǔ）要特點（diǎn）：
   A具有行（háng）動穩定電壓功能，具（jù）有理想（xiǎng）的電壓陡降特性，
有效（xiào）抑製工件表（biǎo）麵打火（huǒ），明顯提（tí）高鍍件的（de）成（chéng）品率、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出（chū）峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手（shǒu）動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先（xiān）進的PWM脈寬調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小（xiǎo）、重（chóng）量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格（gé）完（wán）善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並（bìng）且具有（yǒu）抑製（zhì）靶材弧光放電及抗短路（lù）功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性（xìng），又提（tí）高（gāo）了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊（shū）鍍膜工藝（yì）時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前（qián）的（de）離子轟（hōng）擊和鍍膜時的離子加速（sù）等。

社會不斷發展，技術也（yě）是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用（yòng）範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜（mó）技術是一種新穎的材料合成與加（jiā）工的新技術，是表（biǎo）麵工程技術領域的重要組成（chéng）部分。隨著全球製造業高速發展，真（zhēn）空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包（bāo）括製造大規模集成電（diàn）路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充（chōng）分展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平（píng）麵顯示器上的導（dǎo）電膜（mó）和增透膜；建築、汽車行業上應（yīng）用的玻璃鍍膜和（hé）裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具（jù）體各種功能裝（zhuāng）飾效果的（de）功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方（fāng）麵的各種功能性薄膜等。對於國內真（zhēn）空鍍膜設備製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟（jì）處於（yú）繼續探底（dǐ）過（guò）程，真空鍍膜設備製造企業應著力進行產業結（jié）構優化升級，重質量、重服務明確市場定（dìng）位（wèi），大力研發擁有自主知識產權的新（xīn）產品（pǐn）新（xīn）工藝，提（tí）高產品質量和（hé）服務水（shuǐ）平。

2、依托（tuō）信（xìn）息化發展趨勢，堅（jiān）持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量（liàng）高、經濟效益好、資源（yuán）消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托（tuō）政（zhèng）府（fǔ）支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的（de）科研（yán）院所、大型（xíng）企（qǐ）業、高校合作，使得新品能（néng）迅速推（tuī）向市場。

真空鍍膜（mó）技術及設備擁有十分廣闊的應用（yòng）領域和發展前景。未來真空鍍（dù）膜設備行業等製造業將以信息化融合為重心，依（yī）靠（kào）技術（shù）進步，更（gèng）加注重（chóng）技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真空（kōng）鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺（tǐng）進。