上海HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有（yǒu）效抑製工件表（biǎo）麵（miàn）打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔（jié）度和（hé）膜層結（jié）合力。
   B 電壓脈衝輸出峰（fēng）值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占（zhàn）空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可（kě）選擇手動控製/模擬量接口控（kòng）製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈（mò）寬調製技（jì）術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠（kào），生產工藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采用先進的DSP控（kòng）製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光（guāng）放電及抗短路功能，
具有極佳的負（fù）載匹（pǐ）配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗（xǐ）速度；
主要參數均可大範圍連續（xù）調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用（yòng）途：

高壓窄脈衝電源適（shì）用於特殊鍍膜工藝時被鍍工（gōng）件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子（zǐ）轟擊（jī）和鍍膜（mó）時的離子加速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空（kōng）鍍（dù）膜電源（yuán）的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種（zhǒng）新穎的材料合成與加工的新技術（shù），是表麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全（quán）球製造業高速發展，真空鍍膜（mó）技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示（shì）器、觸摸屏、太陽（yáng）能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材（cái）料（liào）需（xū）求都（dōu）在不斷增加，包括製造大（dà）規（guī）模集成（chéng）電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展（zhǎn）示和應用各種光學特性的光（guāng）學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示（shì）器上的導電膜和增（zēng）透膜；建築、汽車行業上應用（yòng）的玻璃鍍膜（mó）和裝飾膜；包裝領域用（yòng）防護膜（mó）、阻隔膜；裝飾材料上具體（tǐ）各種（zhǒng）功能（néng）裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上（shàng）應用（yòng）的耐（nài）磨超（chāo）硬（yìng）膜；納米材料（liào）研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空鍍膜設備（bèi）製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇（sū）充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真（zhēn）空鍍膜設備（bèi）製造企業（yè）應著（zhe）力進行產業結構優化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力（lì）研發擁有自主知識（shí）產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發（fā）展趨（qū）勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業（yè）化促進信息化”，走出（chū）一條科技含（hán）量高、經濟效益好、資源消耗低（dī）、環境汙染少、人力資（zī）源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大（dà）力加強與擁有行業先進技術和工藝（yì）水平的科研院（yuàn）所、大型企業、高校合作，使（shǐ）得新品能迅速推向（xiàng）市場。

真空鍍膜技術及設（shè）備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業（yè）等製造業（yè）將以信息化融合（hé）為重心，依靠技術進步，更（gèng）加注重技術能力積累，製造偏向服務（wù）型，向世（shì）界真空（kōng）鍍膜設備行業等製造業價值鏈高（gāo）端挺進。