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浙江MS係列勵磁多波形電(diàn)源

浙江MS係列勵磁多波形電源

  • 所屬分類:浙江MS係列勵磁多波形電源
  • 瀏(liú)覽次數:次(cì)
  • 發布日期(qī):2020-05-07 17:04:46
  • 產品概述(shù)
  • 性能特點(diǎn)
  • 技術參(cān)數

主要型號:


型號

功率(lǜ)(W)

工(gōng)作電壓(V)

蕞大峰值(zhí)電流(liú)(A)

外(wài)形尺寸

冷卻方式

MS-10A

400W

-40~+40

-10~+10

482*175*550

(WHD)[4U]


風冷

MS-20A

800W

-40~+40

-20~+20

MS-30A

1200W

-40~+40

-30~+30


主要特點:
   A 可選擇(zé)三(sān)角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的蕞(zuì)高(gāo)值和蕞(zuì)低值可獨(dú)立設置。
   B輸(shū)出電壓範圍:-40V~+40V。
   C波形頻(pín)率(lǜ)範圍:0.1-50Hz
   D三角波(bō)、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製,可選配(pèi)RS485通訊接口(kǒu)。
采(cǎi)用先進(jìn)的PWM脈寬調製(zhì)技術(shù),使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關(guān)器件,
體(tǐ)積小(xiǎo)、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生(shēng)產工藝(yì)嚴格完善。
該係列(liè)產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工(gōng)藝的重複性,
並且(qiě)具(jù)有抑製靶材弧光放電及抗短(duǎn)路(lù)功能,
具(jù)有極佳的負(fù)載(zǎi)匹配能力(lì),既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度(dù);
主要參數均可(kě)大範圍連續調(diào)節(jiē);
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實(shí)現自動化控製。


主要用途:

MS係列勵磁多波形電源選擇(zé)多種電壓(yā)波形輸出。通過驅(qū)動多弧靶(bǎ)外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光(guāng)由原來的集中放(fàng)電變為均勻放電,提高工件膜層質量

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在真空鍍膜(mó)時,使用(yòng)直流負偏壓(yā)電(diàn)源,其(qí)中運用直流電源,這個電源的電子方向(xiàng)一直統一,會導致單一品種(zhǒng)電荷(hé)堆(duī)積過高與控製源中和。也就是(shì)說用來提供動力(lì)的正負極被中和了。然後磁(cí)控濺射將不再持(chí)續(xù)。所以選用脈衝電源。真空鍍膜一種由物理辦(bàn)法發生薄膜(mó)資料的技能(néng)。在真空室內(nèi)資(zī)料的原子從加熱源離(lí)析出來打到被鍍物體(tǐ)的外表上(shàng)。此項技能樶先用於出(chū)產光學鏡片,如航海望遠鏡鏡片等。後延伸到其他功(gōng)用薄膜,唱(chàng)片鍍鋁、裝修(xiū)鍍膜和資料外表改性等。如手表外殼鍍仿金色,機械刀(dāo)具鍍膜,改變加工紅硬性。真空鍍膜(mó)是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術,在真空室(shì)內(nèi)材(cái)料(liào)的原(yuán)子從加熱源離析出來打到被鍍物體的(de)表麵上(shàng)。

真空(kōng)鍍膜電源(yuán)

真空鍍膜電源


(1)在真空鍍(dù)膜機運轉正常情況下,開動真空鍍膜機時,必須先開水管,工作中應隨時注意水(shuǐ)壓(yā)。


(2)在離子(zǐ)轟擊和蒸發時,應特別注意高壓電線接頭(tóu),不(bú)得觸動,以防觸電。


(3)在用電子槍鍍膜時,應在鍾罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃樶好用鉛玻璃,觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵(qīn)害人體。


(4)鍍製多層介質膜的鍍膜間(jiān),應安(ān)裝通風吸塵裝置,及時排除有(yǒu)害粉(fěn)塵。


(5)易燃有毒物品(pǐn)要妥善保管(guǎn),以防失火中毒。


(6)酸洗夾具應在通風裝置內進行,並要戴橡皮手套。


(7)把零件放入酸洗或堿洗槽中時,應輕拿輕放(fàng),不得碰撞及濺出。平時酸(suān)洗槽盆(pén)應加蓋。


(8)工作完畢應斷電、斷水。


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