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離子源電源理想的磁（cí）場設計體（tǐ）現為：一（yī）方麵盡可能擴大磁場橫向分量的麵積與強度，另一方麵樶大程度的（de）控（kòng）製和（hé）限製弧斑的運動。由於工具鍍膜持續時間較長，對膜層的性能要求較高，工業應用的離子鍍（dù）弧（hú）源應（yīng）具備（bèi）以下幾點特（tè）性（xìng）：(1)放電穩定，不經常滅弧；(2)弧斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶材利用率高；(4)弧斑細膩，放電功率密度小，大顆粒少；(5)等離子體密度以（yǐ）及離化率高，向工件輸運的等離子體（tǐ）通量足夠。
真空鍍膜電源技術的離子源電源：提高工具、模具的加工（gōng）質量（liàng）和使用壽命一直是人們不斷探索的課題。電弧（hú）離子鍍技術是一種工模（mó）具材（cái）料表麵改性技術，具有離（lí）化率高、可低溫沉積、膜層質量好以及沉積速率快等（děng）其他鍍膜方式所不具備的優勢，已（yǐ）在現（xiàn）代工具以及各種（zhǒng）模具（jù）的表麵防護取得了理想的應用效果。但是，電（diàn）弧放電導致的大顆粒存在限製了工模具（jù）塗層技術的進一步應用，也成為後期電弧離子鍍技術發展的主要論題。
離子鍍弧源是電弧等（děng）離子體放電的源頭，是離（lí）子鍍技術的關鍵部件。電弧離子鍍采用的弧源是冷陰極弧源，這（zhè）種弧源中電弧的行為被陰極表（biǎo）麵許多快速遊動、高度明亮的陰極斑點（diǎn）所控製。在發展和完善電（diàn）弧（hú）離（lí）子鍍技術的過程中，對電弧陰極斑點運動的有效控製至關重要，因為這決定了電弧放電的穩定性、陰極靶材（cái）的有效利用、大顆粒的去除、薄膜質量的改善等（děng）諸多關鍵問（wèn）題（tí）的解（jiě）決。國內外一直致力於這方麵的工（gōng）作，研究熱點主要集中在（zài）磁（cí）場控製的弧源設計上（shàng）。由於真空鍍膜（mó）電源電弧的物（wù）理（lǐ）特性，外（wài）加電磁場是控製弧斑運動的有效方法，目（mù）前所有的磁場設計都是考慮在靶麵形成一定的磁場位形，利用銳角法則限製弧斑的運動（dòng）軌跡，利用橫向分量提高弧斑的運動（dòng）速度。
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