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真空鍍膜電源
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離子源電源的(de)用途

2024-06-01 15:00:51

離(lí)子源電源主要利用離子氣體轟擊基材,較好地清(qīng)洗基材表麵的油(yóu)漬,增強塗層後的附著(zhe)力。隨著市場對(duì)產(chǎn)品質量的要求越來(lái)越高,真(zhēn)空鍍膜廠家也想出了各(gè)種方法來(lái)提(tí)高(gāo)產品質量,以滿足客(kè)戶的檢測要求。離子源電(diàn)源旨在從生產(chǎn)源頭控製質量。


在(zài)真空鍍膜(mó)的生產過程中(zhōng),鍍膜前(qián)要對基材進行清洗,否則看不(bú)見的汙垢會造成鍍膜後顏色不均勻。較為常用的方法是超(chāo)聲波清(qīng)洗。但它不同於離子源電源產生的離子氣轟擊清洗。在真空狀態下,離子氣體在電場的作用下高速運動,在襯底表麵產生物理(lǐ)碰撞,離子氣體的能量足(zú)以(yǐ)去除各種汙(wū)染物。離子源電源近兩年來逐漸被真空鍍膜廠家所接受。

離子源電源(yuán)

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