關於真空離子鍍膜的作用

2020-07-25 00:00:00

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真空鍍膜電源廠家的在真空離子（zǐ）鍍膜（mó）中，尤其對於（yú）多弧離子鍍膜，無論是裝飾鍍還是工具鍍，轟偏電源的好壞對於成膜質量（liàng）都起著非常關鍵的作用。裝飾鍍和工具鍍對膜層質（zhì）量的（de）要求有相同之處又各有側重。

離（lí）子源電源

離子鍍是真（zhēn）空室中（zhōng），利（lì）用氣體（tǐ）放電或被蒸（zhēng）發物質部分離化（huà），在氣體（tǐ）離子或被蒸發物質粒子轟（hōng）擊作用的同時，將蒸發（fā）物或反應物沉積（jī）在基片上。離子鍍把（bǎ）輝（huī）光放（fàng）電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合（hé）起來，不僅能明顯地改進了（le）膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。多弧電源其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離子（zǐ）鍍（dù）原理，起工作（zuò）過程是：

先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高壓電源，在蒸發源與基片之間建立一個低壓氣（qì）體放電的（de）低溫（wēn）等離子區。基片電極接上5KV直流負高壓，從而形成光放（fàng）電陰極。輝光放電去產生的惰性（xìng）氣（qì）體離子（zǐ）進入陰極暗區（qū）被電場加速並轟（hōng）擊基（jī）片（piàn）表麵，對其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子進入等離子區，與惰（duò）性氣體離子及電子發生碰撞，少（shǎo）部分產生離化。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟擊鍍（dù）層表麵，致使膜層質量（liàng）得到改善。