脈衝磁控濺射電源（yuán）簡介

說起單極脈衝磁控濺射電源，可（kě）能有點困惑，但（dàn）我想說的（de）是，它是對直流磁（cí）控濺（jiàn）射電源（yuán）的升級，是不是突然明白了（le）？脈衝磁控濺射是用矩形波電壓（yā）脈衝電源代替傳統直流電源的一種方法。脈（mò）衝濺射可以（yǐ）有效地抑製電弧的產生，消除由此產生的（de）薄膜缺陷，同時（shí）可以提高濺射（shè）的沉（chén）積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的精選（xuǎn）工藝。一個周（zhōu）期有正電壓和負電壓兩個階段（duàn），在負電壓段中，電源（yuán）作用於靶（bǎ）材的濺射（shè），正電（diàn）壓段（duàn）將電子積（jī）累的正電荷引入靶材表麵，使（shǐ）表麵清潔，露出金屬表麵。施加在靶材上的脈衝電壓與一般磁控濺射的脈衝電壓相同！對（duì）於400~500V，電源頻率在10~350KHz，在保證穩定放電的前提下，應（yīng）盡可（kě）能低地（dì）取頻率#因為等離子體中的電（diàn）子（zǐ）相對於離子具有更高的遷移（yí）率（lǜ），所以正電壓值隻需要是負電壓的（de）10%到20%，就可以有效地（dì）中和積聚在靶表麵的正電荷。占空比的選擇確保（bǎo）了濺射過程中靶表麵積累的電荷在正電壓階段可以完全被中和，從而盡（jìn）可能地提高占空（kōng）比，以實現電源的較大效率。

單（dān）極脈衝磁控濺射電源的優點是，它可以有（yǒu）效地抑製電弧的產生，消除由此產生的（de）薄膜缺（quē）陷，同時可（kě）以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度（dù）等一係列（liè）顯（xiǎn）著優點，是沉積濺（jiàn）射絕緣材料的（de）較佳工藝