脈衝磁控（kòng）濺射電源的功（gōng）能和工作原理

脈（mò）衝磁控濺射是一種用矩形（xíng）波電壓（yā）脈衝電源代替傳統直流電源的方法。脈衝濺射可以有效抑製電弧的產生，消除由（yóu）此產生（shēng）的薄膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速（sù）率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉（chén）積的工藝。

脈衝磁控濺（jiàn）射的工（gōng）作原理（lǐ）

一個周期有正電壓和（hé）負電（diàn）壓兩個階段，在負電壓段，電源對靶材的濺（jiàn）射（shè）起作用，正電壓段引入電子和靶材表麵積累的正電荷，使表麵清潔，露出金屬表麵。

施加在（zài）靶材（cái）上的脈衝電壓與普通磁控濺射相同！對於（yú）400~500V，電源（yuán）頻率在（zài）10~350KHz，在保證放電穩（wěn）定的前提下，應盡可能（néng）取低的頻率#因為等離子體中的電子相（xiàng）對於離（lí）子具有較高的遷移率（lǜ），所（suǒ）以正電壓值隻需要負電壓的10%-20%，就可以有效地中和積累在靶表麵上的正電（diàn）荷。占空比的選擇確保了濺射過程中靶表麵上的累積（jī）電荷可以在正（zhèng）電（diàn）壓階（jiē）段（duàn）完全中和，從而盡可能提（tí）高占空比，實現電源的大效率。