真空鍍膜技術的專業術語和（hé）工藝

1.1真空鍍膜:在真空條件下在（zài）基材上製備薄膜層的方法。

1.2底物:膜層受體。

1.3測試基材:在塗層過程開始、過程中或之後用於測量和/或測試（shì）的基材。

1.4塗層材料:用於製作塗層的原材（cái）料。

1.5蒸發材料:真空蒸發中用於蒸發的塗層材料。

1.6濺射材料:真空濺（jiàn）射（shè）中用（yòng）於濺射的塗層材料。

1.7膜材:構成膜層的材料（liào）。

1.8蒸發速率:在給定的時間間隔（gé）內，物質的蒸發量除（chú）以該（gāi）時（shí）間間隔

1.9濺射率:在給定時間間（jiān）隔內濺射出的材料量除以該時間間隔。

1.10沉積速（sù）率:在給定時間間隔內（nèi）沉積在襯底上的材料量，除以時（shí）間（jiān）間（jiān）隔和襯（chèn）底表麵積。

1.11塗層（céng）角:顆粒入射到基材上的方向與被（bèi）塗層表麵法線之間的夾角。

2過程

2.1真空蒸發鍍膜:使塗層材（cái）料蒸發的真空鍍膜工藝。

2.1.1同時蒸發:利用多台蒸發器將各種（zhǒng）蒸發物質同時蒸發到基（jī）材上（shàng）的真空蒸發。

2.1.2蒸發場蒸發:從蒸發場同時（shí）蒸發出來的材料沉積在基片上的真空蒸發過程(該過程應用於大規模蒸（zhēng）發，以（yǐ）達到（dào）理想（xiǎng）的膜厚分布)。

2.1.3反應真空蒸發（fā）:膜（mó）材（cái）料通過與氣體（tǐ）反應而達到理想化學成分的真空蒸發。

2.1.4蒸發器反應真（zhēn）空蒸發蒸發器（qì）反應真空蒸發:與蒸發器（qì）內各種蒸發物質發生反應，得到理想化學成分膜層材料的真空蒸發。

2.1.5直接加熱蒸發:蒸發物料蒸發所需的熱量是蒸發物料本身的蒸發(有或無坩堝)。

2.1.6感應加熱蒸發:通過感應渦流（liú）加熱使物（wù）料蒸發。

2.1.7電子束蒸發:通過電子轟擊加熱材料的蒸發。