MSD係列直流磁控濺射電（diàn）源

主（zhǔ）要型號（hào）：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件（jiàn），
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶（bǎ）鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備（bèi）恒流/恒功率模（mó）式可選。恒（héng）功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證（zhèng）鍍（dù）膜工藝（yì）的重（chóng）複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動識別偽打火現象（xiàng），
充分滿足磁控濺射工藝過程的（de）連續性。
  D 主要參數可大範（fàn）圍調節（jiē）
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
  F 采用進口大功（gōng）率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使（shǐ）用進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功能（néng）全、性能穩定可（kě）靠，生產工藝（yì）嚴格（gé）完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具（jù）有抑製靶材（cái）弧光放（fàng）電及抗（kàng）短路功能，
具有極佳（jiā）的負（fù）載匹配（pèi）能力（lì），既保證了靶（bǎ）麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度（dù）；
主（zhǔ）要（yào）參數（shù）均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可靠性（xìng）高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要（yào）用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技（jì）快速發展的時代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應用，所以電源的類型也（yě）隨之（zhī）而多樣。真空鍍（dù）膜電源是眾多電源類型中的（de）一種，這種電源（yuán）與普通的電源（yuán）有一（yī）定的區別，單是電源（yuán）的外觀就（jiù）有明（míng）顯的不同。

     真空鍍膜機光學（xué）鍍膜（mó）加工（gōng）上有什麽要注意的嗎？當光線（xiàn）進（jìn）入不同傳遞物質時（shí）（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉（diào），在光學瞄準鏡中有許多（duō）透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至（zhì）40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層（céng）氟化（huà）鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少（shǎo）至1.5%，多層增透膜則可讓反射降（jiàng）低至0.25%，所以整個瞄準鏡如（rú）果加以適當鍍膜，光線透（tòu）穿率（lǜ）可（kě）達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫（zǐ）色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色（sè）或暗紫（zǐ）色。

真空鍍（dù）膜機增透膜增（zēng）加透射光強度的實質是作為電（diàn）磁波的光波在傳播的（de）過程中，在不同介質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變了其能量的（de）分布。對於單層薄（báo）膜來說，當（dāng）增透膜兩邊介（jiè）質不同時，薄膜厚（hòu）度為1/4波長的（de）奇數倍且薄（báo）膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以（yǐ）使入射光全部透過介質。一般光學透鏡（jìng）都是在空氣中使用（yòng），對於一般折射（shè）率在1.5左右的（de）光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效（xiào）果，可使（shǐ）n1=1.23，或接近1.23；還要（yào）使增透薄膜（mó）的（de）厚度=（2k+1)倍四分（fèn）之一個波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的利用有（yǒu）了很多的經（jīng）驗（yàn），發現了不少可以作為增（zēng）透膜的材料；同時也掌握了不少先（xiān）進的鍍膜技術，因此增透膜的（de）應用（yòng）涉（shè）及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科（kē）技進（jìn）步作出了重（chóng）大貢獻。