主要型號:
型號 | 功率(lǜ)(W) | 工作電壓(V) | 最大(dà)峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特(tè)點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波(bō)三種波形,波形的最高值和最低(dī)值可獨立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩(jǔ)形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接(jiē)口控製,可選配RS485通訊接(jiē)口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該(gāi)係列產品采(cǎi)用先進的DSP控製係統,充分(fèn)保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑(yì)製靶材弧光放電及抗短路功能,
具有極佳的負載匹配能力,既保證了靶麵清洗工(gōng)藝的穩定性,又(yòu)提高了靶麵清洗(xǐ)速度;
主要參數均可大範圍連續調(diào)節;
方便維護(hù),可靠性高(gāo);
PLC接口和RS485接口擴展功(gōng)能,方便實(shí)現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁(cí)多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通(tōng)過驅動多弧靶外圍磁(cí)場線圈(quān),產生周期(qī)性(xìng)可(kě)變磁磁場,使多弧輝光由(yóu)原來的集中放電變為均勻放電,提(tí)高工件膜層質量
真空鍍膜電源廠家告訴(sù)你高頻(pín)開關(guān)電鍍電源應用在(zài)金屬表麵處理及小功率範圍內(nèi)的國內市場已經接受,具有廣闊的市場前景。但產品主要局限於(yú)1500A以下的中小功率領域,在國內也隻有少量廠家生(shēng)產,從技術角度看主要限於硬開關變換模式和模擬控製方式,可靠性、EMC及工(gōng)藝結構(gòu)等方麵具有明顯的局限性,同焊接(jiē)等領域全麵推廣應(yīng)用開關式電源(yuán)的景況具有較大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金(jīn)屬或非金屬(shǔ)材料,使其蒸發(fā)並(bìng)凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣(yuán)體)表麵而形成薄膜的一種方(fāng)法。
真(zhēn)空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要(yào)方麵,在真空中以真空技術為(wéi)基礎,把物理方(fāng)法和化學(xué)方法利用起來,通過(guò)吸收分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻(pín)和磁(cí)控等一係列高新技術,在科學研究和實際(jì)生(shēng)產中,為薄膜製(zhì)備提供一種(zhǒng)新工藝,簡單的一點來說,要在真空中利用合金、金屬或化合物進(jìn)行蒸發和濺射,並讓被塗覆的(de)物體(有基片、稱基板、基(jī)體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜(mó),那(nà)真空鍍膜電源就可想而知,眾所周知,在一些材料(liào)的表麵上鍍上一層薄膜,就(jiù)可以使這種材料具(jù)有多種性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;