主要型號:
型(xíng)號 | 功(gōng)率(W) | 工作電壓(V) | 蕞大峰(fēng)值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻(què)方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特(tè)點:
A 可(kě)選擇三角波、矩形波、正弦波三種波(bō)形,波形的蕞高值和蕞低值可(kě)獨立設置。
B輸(shū)出電壓範圍:-40V~+40V。
C波(bō)形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可(kě)選擇手動控製/模(mó)擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用先進的(de)PWM脈寬調製技(jì)術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件(jiàn),
體積小、重量輕(qīng)、功能全、性能穩定(dìng)可靠,生產工(gōng)藝嚴格完善。
該係列產品采(cǎi)用先進的DSP控製係統,充(chōng)分保(bǎo)證鍍膜工(gōng)藝的重複(fù)性(xìng),
並且具有抑製靶材弧光放電及(jí)抗短路功能,
具有(yǒu)極佳的負載匹配(pèi)能力,既保證了靶麵清洗工(gōng)藝的穩定性,又提高了(le)靶(bǎ)麵清洗速度;
主要(yào)參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可(kě)靠性高;
PLC接口和RS485接口(kǒu)擴展功能,方便實現自動化(huà)控製。
主要用途:
MS係(xì)列勵磁多(duō)波形(xíng)電源選擇多種電壓波形輸出(chū)。通過驅動多弧靶外圍(wéi)磁場線圈,產生周期性可(kě)變磁磁場,使多弧輝(huī)光由原來的集中放電變(biàn)為均勻(yún)放電,提(tí)高工件膜層質量
現在工業區(qū),在範圍上擴展的是越來越廣,跟隨w17c起草视频行業的發展,現在機械設備(bèi)研發的是越來越多,當然(rán)啦,研發那麽多,在一些(xiē)加(jiā)工廠家肯定是要應用到的(de)啦,在範圍上,在數量上都不會少,現在w17c起草视频來了解下真空鍍膜電源這項項目吧!
1、在光(guāng)學儀器中:人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微(wēi)鏡、照相機、測距儀(yí),以及日常生(shēng)活用品(pǐn)中的鏡子、眼鏡、放大鏡(jìng)等,它(tā)們都離不開鍍膜技術,鍍製的薄膜有反射膜、增透膜和吸(xī)收膜等幾種。
2、在信息存儲領域中:薄膜(mó)材料作為信息記錄於存(cún)儲介質,有其得(dé)天獨厚的優勢:由於薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉極為(wéi)迅速;與膜麵平行的雙穩態狀態容易保(bǎo)持等(děng)。為(wéi)了更精密地記錄與(yǔ)存儲信息,必(bì)然要采用鍍膜技術。
3、在傳感器方麵:在傳感器中,多采用那些電氣性質相對於物理量(liàng)、化學量及其變化來說,極為敏感的半導體材料。此外,其中,大多數利用的是半導體的表麵、界麵的(de)性質,需要盡量增大其麵積,且能工(gōng)業化、低價格製作,因(yīn)此,采(cǎi)用(yòng)薄膜的情況很多。
4、在集成電(diàn)路製造中:晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶矽、鋁、銅及其合金(jīn))等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技(jì)術和射頻濺射技術。可見,氣(qì)相沉積(jī)是製備集成電路的核心技術之一。
手(shǒu)機:18802599203(劉小姐)
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