主要(yào)型號(hào):
型(xíng)號 | 功率(lǜ)(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式(shì) |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要(yào)特點:
A 可選擇三角波、矩(jǔ)形波、正弦波三種波形,波形的最高值和最低值可獨立設置。
B輸(shū)出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形(xíng)波占空比10%~90%
E 可(kě)選擇手(shǒu)動控製/模(mó)擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進(jìn)口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重(chóng)量輕(qīng)、功能全、性能穩(wěn)定可(kě)靠,生(shēng)產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充(chōng)分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具(jù)有抑製靶(bǎ)材弧光放電及抗短路功能,
具有極佳的負載匹配(pèi)能力,既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶(bǎ)麵(miàn)清洗速度(dù);
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功(gōng)能,方便實現自動化控(kòng)製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選(xuǎn)擇多(duō)種電壓波形輸(shū)出。通過(guò)驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝(huī)光由原來的集中(zhōng)放電變為均勻放電,提高工件膜層(céng)質量
真空鍍膜電源廠家告訴你高頻(pín)開關電鍍電(diàn)源應用在(zài)金屬表(biǎo)麵(miàn)處理及小功率範圍內的國內市(shì)場已經接受(shòu),具有廣闊的市場前景。但(dàn)產品主要局限於1500A以下的中(zhōng)小功率領域,在國內也隻有少量廠家生產,從技術角度看主要(yào)限於硬開關變換模式和模擬控製方式,可靠(kào)性、EMC及工藝結(jié)構等(děng)方麵具(jù)有明顯的局限性,同(tóng)焊接等領(lǐng)域(yù)全麵推(tuī)廣應用開關式電源的(de)景況具有較大(dà)差距。
真空鍍膜是(shì)指在高真空的(de)條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表麵而形成薄膜(mó)的一種方法。
真(zhēn)空鍍(dù)膜這一塊是真(zhēn)空應用(yòng)領域的重要方麵,在真空中以(yǐ)真(zhēn)空技術為基礎,把物理方(fāng)法和化學方法利用起來(lái),通過吸收分子束、離子束(shù)、電子束(shù)、等離子束、射頻和磁控(kòng)等(děng)一係列高新技術,在科學研(yán)究和實際生產(chǎn)中,為薄膜製備提供一(yī)種新工藝(yì),簡單(dān)的一點來說,要在真(zhēn)空中利用合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射,並(bìng)讓被塗覆的物體(tǐ)(有基片、稱基板、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真(zhēn)空(kōng)鍍膜電源就可想而知,眾所周知(zhī),在(zài)一些(xiē)材(cái)料的表麵上(shàng)鍍上一層薄膜,就可以使這種(zhǒng)材料具(jù)有多種性能,例如良好的物理和(hé)化學(xué)性能並且是(shì)嶄新的;
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