脈衝磁控濺（jiàn）射是一種用矩（jǔ）形波（bō）電壓脈衝電源代替傳統直流電源的方法。脈衝濺射可以有效抑製電弧的產生，消除由此（cǐ）產生的薄膜缺（quē）陷，同時（shí）可以提高濺射的沉積速率，降低（dī）沉積溫度等一係列顯著優點，是濺（jiàn）射（shè）絕緣材料沉（chén）積的工藝。脈（mò）衝磁控濺射的工作原（yuán）理（lǐ）一個周（zhōu）期有正電壓

說起單極脈衝磁控濺射電源，可能有點困惑，但我想說的是（shì），它是對直流磁控濺射電源的升級，是不是突然明白（bái）了（le）？脈衝磁（cí）控濺射是用（yòng）矩形波電壓脈（mò）衝電（diàn）源代替傳統直流電（diàn）源的一種方法。脈衝濺射可以有效地抑製電弧的產生，消除由此產生的（de）薄膜缺陷，同時可以提高濺射的