北京MSD係列直流（liú）磁（cí）控（kòng）濺射電源

主（zhǔ）要型號：

主（zhǔ）要特點：
   A 采用先進的電流型開關電（diàn）源技術，減小輸（shū）出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應（yīng）用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率（lǜ）模式可選。恒功（gōng）率模式相（xiàng）對於傳統（tǒng）的恒流模式，
更能保證鍍（dù）膜工藝的重複（fù）性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動（dòng）識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過（guò）程的連（lián）續性。
  D 主要參數可大（dà）範圍調節
  E 可選擇手動控（kòng）製/模（mó）擬量接口控（kòng）製，可（kě）選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模（mó）塊
采用先進的PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關器（qì）件，
體積小、重量輕、功能全、性能（néng）穩定可靠，生產工藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充（chōng）分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗（kàng）短路功能，
具（jù）有極佳（jiā）的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝（yì）的（de）穩（wěn）定性，又提高了靶麵清（qīng）洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接（jiē）口和RS485接口擴（kuò）展功能，方（fāng）便（biàn）實現自動（dòng）化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金（jīn）屬

在電子科技快速發展的（de）時代中，電（diàn）源的應（yīng）用可以說是隨處可見的，或（huò）許正是因為電源的普遍應用，所以電源的類型也隨（suí）之（zhī）而多樣（yàng）。真空鍍膜（mó）電源是眾多電源類型中的一種（zhǒng），這種電（diàn）源與普通的電源有一定的區別，單（dān）是電（diàn）源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜（mó）機光學鍍膜加（jiā）工上有什麽要（yào）注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入（rù）玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡（jìng）和折射（shè）鏡，整（zhěng）個加起來可以讓入射（shè）光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增（zēng）透（tòu）膜，單層增（zēng）透膜可使反射減少（shǎo）至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個（gè）瞄準鏡如果加以（yǐ）適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通（tōng）常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫（zǐ）色。

真空（kōng）鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳（chuán）播的過程中，在不同介質的分（fèn）界麵上，由於邊界條件的不同，改變（biàn）了（le）其能量的（de）分布。對於單層薄膜來說，當增透膜兩邊（biān）介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射（shè）率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學（xué）透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單（dān）層膜達到（dào）100%的（de）增透效果，可使n1=1.23，或接（jiē）近1.23；還要使增透薄膜（mó）的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某（mǒu）一特定波長的電磁波（bō）增透，為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍（dù）多層膜來實（shí）現。

人們對增透膜的利用有了很多的經驗（yàn），發現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術（shù），因此增透膜的應（yīng）用涉及醫學、軍事、太空探索等（děng）各行各（gè）業（yè），為人類科技進步（bù）作出了重大貢獻。