江蘇MSD係列直流磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流（liú）型開關電源技術，減小輸出儲能元（yuán）件，
同時提高了抑製打火及重啟（qǐ）速（sù）度，應用在鋁靶鍍膜優勢（shì）更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相（xiàng）對於（yú）傳統的恒流模式，
更（gèng）能保證鍍（dù）膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁（cí）控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可（kě）選（xuǎn）擇手動控製/模擬量接（jiē）口（kǒu）控製（zhì），可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕（qīng）、功能全、性能（néng）穩定可靠，生產工（gōng）藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材（cái）弧光放電及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負（fù）載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性（xìng），又提高（gāo）了靶麵清洗速度（dù）；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要（yào）用途：

直流（liú）磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技快速（sù）發展的時代中，電（diàn）源的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為（wéi）電（diàn）源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜（mó）電源是眾多電源（yuán）類型中的（de）一種（zhǒng），這種電源與普通的電（diàn）源（yuán）有一定的（de）區別，單是電源的外觀就（jiù）有明顯的不同。

     真空鍍膜機光（guāng）學鍍膜加工上有什麽要注（zhù）意的（de）嗎？當光線進入不同傳遞物（wù）質時（如由空氣進入玻（bō）璃（lí）），大約有5%會被反（fǎn）射掉，在（zài）光學瞄準（zhǔn）鏡中有許多透鏡和折（shé）射鏡，整（zhěng）個加起來可以讓入射光（guāng）線損失達30%至40%。現代光學透（tòu）鏡通常都鍍有單層或多層（céng）氟化鎂的增透膜，單（dān）層增（zēng）透膜可使反射減少至1.5%，多層（céng）增（zēng）透膜則（zé）可讓反射（shè）降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當（dāng）鍍膜，光（guāng）線透穿（chuān）率可達95%。鍍了單層增（zēng）透膜的鏡片通（tōng）常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜（mó）的鏡片則呈淡綠色或暗（àn）紫色。

真空（kōng）鍍（dù）膜機增透膜增加透射（shè）光強度的實質是作為電磁波的光波在傳（chuán）播的過程中，在不同介質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說（shuō），當（dāng）增透膜兩邊介（jiè）質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率（lǜ）n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折（shé）射率），才（cái）可（kě）以使入射光全部透過（guò）介質。一般光學透（tòu）鏡都是（shì）在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透（tòu）效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增（zēng）透，為使在更大範圍內和更多波長實現（xiàn）增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對（duì）增透膜（mó）的利用有了很多的（de）經驗，發現了不（bú）少可以作為增透膜的材料；同時也（yě）掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。