上海MSD係列直流磁控濺（jiàn）射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流（liú）型開（kāi）關電源技術，減小輸出儲（chǔ）能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜（mó）優勢更（gèng）為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式（shì）相對於傳（chuán）統的恒流模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理（lǐ）想的電壓陡降特性，自動識別偽打火（huǒ）現象（xiàng），
充分（fèn）滿足（zú）磁控濺射工藝（yì）過程的連續性。
  D 主要參數可大（dà）範圍調節
  E 可選（xuǎn）擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕（qīng）、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進（jìn）的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝（yì）的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力，既保證（zhèng）了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗（xǐ）速度（dù）；
主要參數均可大（dà）範圍（wéi）連續（xù）調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現（xiàn）自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源的應用可以說是隨處可（kě）見的，或許正是因為電（diàn）源的普遍應用，所以電源的類型也隨之（zhī）而多（duō）樣。真空鍍（dù）膜（mó）電（diàn）源是眾多電源類型中的一（yī）種，這種電（diàn）源（yuán）與（yǔ）普通的電源有一定的區別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃（lí）），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有（yǒu）許多（duō）透（tòu）鏡和折射鏡，整個加起（qǐ）來可（kě）以讓入射（shè）光線損（sǔn）失達30%至40%。現代光學透鏡通（tōng）常都鍍有單層或多層氟化鎂的增（zēng）透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個（gè）瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色（sè），鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加（jiā）透射（shè）光強度的實（shí）質是作為電磁波的（de）光波在傳播的過程中，在不同介質的分界麵上，由於邊（biān）界條件的不（bú）同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜兩邊介（jiè）質不同時，薄膜厚（hòu）度為1/4波長的奇（qí）數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的（de）折射率），才可以使入射光全部（bù）透過介（jiè）質。一般光學透鏡都是在空（kōng）氣中使用，對於（yú）一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使（shǐ）單層膜達到100%的增（zēng）透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄（báo）膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長（zhǎng）。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大範圍內和更多波長實（shí）現（xiàn）增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜（mó）的利用有了很多的經（jīng）驗，發現了不少可以作為增（zēng）透膜的材料；同時也（yě）掌握（wò）了不少先進的鍍（dù）膜技術（shù），因此增透（tòu）膜的應用涉及醫學、軍事、太空探（tàn）索等各行各業，為人（rén）類（lèi）科（kē）技（jì）進步作出了重大貢獻。