武（wǔ）漢MSD係列直流磁控濺射電源

主要型號（hào）：

主要特（tè）點：
   A 采用（yòng）先（xiān）進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟（qǐ）速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模（mó）式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具（jù）有理想的電壓陡降特（tè）性，自動識別偽打火現象，
充分（fèn）滿足磁控濺射工藝（yì）過（guò）程的連續性。
  D 主要參數可大範圍（wéi）調（diào）節
  E 可選擇手動控製/模擬（nǐ）量接口控製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬（kuān）調製（zhì）技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體（tǐ）積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格（gé）完善。
該（gāi）係（xì）列產品采用先進的DSP控製係（xì）統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路（lù）功能，
具有極佳（jiā）的負載匹（pǐ）配能力，既（jì）保證了靶麵清洗工藝的（de）穩定性，又（yòu）提（tí）高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範（fàn）圍連續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製（zhì）。

主要用途：

直流磁（cí）控濺射用（yòng）於鍍製各種金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源的應用可以說是（shì）隨處可見的，或許正是因（yīn）為電源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多（duō）電源類型中的一（yī）種，這種（zhǒng）電源與普通的（de）電源有一定的區（qū）別（bié），單是電（diàn）源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜（mó）機光學鍍膜（mó）加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物（wù）質時（如由空氣進入玻璃），大約（yuē）有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡（jìng），整個加起來可以（yǐ）讓入（rù）射光線損失達30%至40%。現代光（guāng）學透鏡通常都鍍有單（dān）層（céng）或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜（mó）可使反射減少至1.5%，多層增透膜則（zé）可讓反射降低至（zhì）0.25%，所以整個瞄（miáo）準鏡如果加以（yǐ）適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片（piàn）通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則（zé）呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍（dù）膜機增透膜增加透射（shè）光強度的實質是作為（wéi）電磁波的光波在傳播（bō）的過程中（zhōng），在不同介質的分界麵上（shàng），由於邊界條（tiáo）件的不同（tóng），改變了其能量的分布。對於單層（céng）薄膜來說，當（dāng）增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚（hòu）度（dù）為1/4波（bō）長的奇數倍且薄膜的折射率（lǜ）n=（n1*n2)^(1/2)時（分別（bié）是介質1、2的折射率（lǜ）），才可以使入射光全（quán）部透過介質。一般光學透鏡都是在（zài）空氣中使用，對於（yú）一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的（de）厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜（mó）隻對某一特（tè）定波長的電磁波增透，為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來（lái）實現。

人們對增透（tòu）膜的利用有了很多的（de）經驗，發現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等（děng）各行各業，為人類科技（jì）進步作出了重大貢獻。