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鏡片在接受鍍膜前必（bì）須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽（cáo）中分別（bié）放置各種清洗液，並采用（yòng）超聲波加強清（qīng）洗效果，當鏡片清洗完後，放進（jìn）真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣（qì）中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內（nèi），在此過（guò）程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再（zài）黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在（zài）真空艙內鍍前進行的，放置（zhì）在真空（kōng）艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此（cǐ）道清洗工序後即進行減反射膜的（de）鍍膜。
真空鍍膜電源為什麽在現在會應（yīng）用那（nà）麽多呢，有哪些（xiē）明顯的效果？
概念的區別：
1、真空鍍（dù）膜是指在高真空的條件下（xià）加熱金屬或非金屬材料（liào），使其蒸發（fā）並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成（chéng）薄膜的一種方法。例如，真（zhēn）空鍍鋁（lǚ）、真空（kōng）鍍鉻等。
2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零（líng）件表麵鍍膜的目的是為了達到減少（shǎo）或增加光（guāng）的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的（de）鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜（mó）的一（yī）種)和化學鍍膜。
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